Tesis doctorals> Departament d'Enginyeria Electrònica, Elèctrica i Automàtica

Compact modeling of gate tunneling leakage current in advanced nanoscale soi mosfets

  • Identification data

    Identifier: TDX:1152
    Handle: http://hdl.handle.net/20.500.11797/TDX1152
  • Authors:

    Darbandy, Ghader
  • Others:

    Date: 2012-12-10
    Departament/Institute: Departament d'Enginyeria Electrònica, Elèctrica i Automàtica Universitat Rovira i Virgili.
    Language: eng
    Identifier: http://hdl.handle.net/10803/97215
    Source: TDX (Tesis Doctorals en Xarxa)
    Author: Darbandy, Ghader
    Director: Íñiguez Nicolau, Benjamí
    Format: application/pdf 149 p.
    Publisher: Universitat Rovira i Virgili
    Keywords: Compact modeling of gate tunneling leakage current in advanced nanoscale soi mosfets
    Title: Compact modeling of gate tunneling leakage current in advanced nanoscale soi mosfets
    Subject: 621.3 - Enginyeria elèctrica. Electrotècnia. Telecomunicacions
  • Keywords:

    621.3 - Enginyeria elèctrica. Electrotècnia. Telecomunicacions
  • Documents:

  • Cerca a google

    Search to google scholar