| Estudiante: | El Housni, Najat ; Hernandez, Carlota
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| Título en la lengua original: | Revamping d'una planta de recuperació de clorur de vinil monòmer
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| Título en diferentes idiomas: | Revamping de una planta de recuperación de cloruro de vinilo monómero
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| Director del trabajo: | Manuel, Tierno
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| Resumen: | Este proyecto, se basa en el redimensionamiento de la unidad de recuperación del monómero utilizado en una planta de producción de poli cloruro de vinilo. Durante los últimos años la planta ha sufrido varios cambios en su capacidad productiva. Para asumir estos aumentos, se han introducido modificaciones en el proceso general manteniendo la misma unidad de recuperación o modificándola ligeramente. Este hecho, ha provocado que la sección no pueda cubrir las necesidades de la planta. Además, los cambios sucesivos han provocado una falta de homogeneidad y simplicidad en la unidad. La función de esta unidad es la de recuperar de diferentes equipos del proceso el cloruro de vinil no reaccionadlo. El objetivo del proyecto es realizar un diseño que solucione los problemas existentes y a la vez presente una flexibilidad que permita asumir posibles aumentos de la producción en un futuro. A parte del diseño y dimensionamiento de los equipos que conforman esta unidad, el proyecto incluye distintos análisis realizados des del punto de vista de la seguridad, medio ambiente, mantenimiento y operación. Finalmente, se ha considerado un estudio económico para determinar la viabilidad del proyecto.
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| Enseñanza(s): | Enginyeria Química
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| Materia: | Enginyeria
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| Áreas temáticas: | Ingeniería química
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| Departamento: | Enginyeria Química
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| Idioma: | Català
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| Confidencialidad: | No
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| Curso académico: | 2011-2012
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| Fecha de alta en el repositorio: | 2012-12-13
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| Entidad: | Universitat Rovira i Virgili (URV)
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| Visibilidad: | Visible sense restriccions
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| Fecha de la defensa pública del proyecto: | 2012-06-04
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| Palabras clave: | Cloruro de vinilo, residuos, recuperación
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| Calificativo del trabajo: | Projecte excel·lent
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| Patentes i derechos de propiedad intelectual: | No
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