Autor segons l'article: Illas F; Ricart J; Casanovas J; Rubio J
Departament: Química Física i Inorgànica
Autor/s de la URV: Ricart Pla, Jose Manuel
Paraules clau: Silicon surfaces Self-consistent field Oxygen Nickel surfaces Hydrogen Embedding theory Electronic-structure Configuration-interaction Chemisorption cluster model Abinitio cluster
Àrees temàtiques: Surfaces, coatings and films Surfaces and interfaces Química Physics, condensed matter Medicina ii Materials chemistry Materiais Interdisciplinar Engenharias iv Engenharias iii Engenharias ii Condensed matter physics Ciências biológicas i Ciências agrárias i Chemistry, physical Astronomia / física
ISSN: 00396028
Adreça de correu electrònic de l'autor: josep.ricart@urv.cat
Identificador de l'autor: 0000-0002-2610-5535
Data d'alta del registre: 2023-04-29
Referència a l'article segons font original: Surface Science. 275 (3): 459-472
Referència de l'ítem segons les normes APA: Illas F; Ricart J; Casanovas J; Rubio J (1992). The nature of the bonding of atomic Al to Si(111): is there a specific site-bond relationship?. Surface Science, 275(3), 459-472. DOI: 10.1016/0039-6028(92)90819-R
URL Document de llicència: https://repositori.urv.cat/ca/proteccio-de-dades/
DOI de l'article: 10.1016/0039-6028(92)90819-R
Entitat: Universitat Rovira i Virgili
Any de publicació de la revista: 1992
Tipus de publicació: Journal Publications
Repositori URV