Autor segons l'article: Alles, A; Jambunathan, V; Slimi, S; Serres, JM; Aguiló, M; Díaz, F; Mateos, X; Smrz, M; Mocek, T
Departament: Química Física i Inorgànica
Autor/s de la URV: Aguiló Díaz, Magdalena / Alles Leal, Adrian / Díaz González, Francisco Manuel / Mateos Ferré, Xavier / Serres Serres, Josep Maria / Slimi, Sami
Paraules clau: Tmylf tm
Resum: We present the laser characteristics of a 5 at.% Tm:YLF crystal using a modular setup at cryogenic temperatures emitting around 2 µm. Continuous-wave laser operation was achieved by pumping the laser crystal using a Volume Bragg Grating-stabilized laser diode emitting at 793 nm. A maximum output power of 6.5 W was achieved at 80 K corresponding to a slope efficiency of 66.0% with respect to the absorbed power with excellent beam quality.
Àrees temàtiques: Química Physics, applied Physics and astronomy (miscellaneous) Physics and astronomy (all) Optics Odontología Medicina ii Materiais Interdisciplinar General physics and astronomy Engenharias iv Engenharias iii Engenharias ii Astronomia / física
Accès a la llicència d'ús: https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es/
Adreça de correu electrònic de l'autor: josepmaria.serres@urv.cat f.diaz@urv.cat adrian.alles@estudiants.urv.cat sami.slimi@estudiants.urv.cat sami.slimi@estudiants.urv.cat magdalena.aguilo@urv.cat xavier.mateos@urv.cat
Identificador de l'autor: 0000-0002-4299-538X 0000-0003-4581-4967 0000-0001-6130-9579 0000-0003-1940-1990
Data d'alta del registre: 2024-08-03
Versió de l'article dipositat: info:eu-repo/semantics/publishedVersion
URL Document de llicència: https://repositori.urv.cat/ca/proteccio-de-dades/
Referència a l'article segons font original: Applied Physics B-Lasers And Optics. 129 (3):
Referència de l'ítem segons les normes APA: Alles, A; Jambunathan, V; Slimi, S; Serres, JM; Aguiló, M; Díaz, F; Mateos, X; Smrz, M; Mocek, T (2023). Cryogenic Tm:LiYF4 laser around 2 µm. Applied Physics B-Lasers And Optics, 129(3), -. DOI: 10.1007/s00340-023-07970-8
Entitat: Universitat Rovira i Virgili
Any de publicació de la revista: 2023
Tipus de publicació: Journal Publications
Repositori URV