Tesis doctorals> Departament d'Enginyeria Electrònica, Elèctrica i Automàtica

Design, fabrication and characterization of porous silicon multilayer optical devices

  • Datos identificativos

    Identificador: TDX:1909
    Handle: https://hdl.handle.net/20.500.11797/TDX1909
    Autores:
    Xifré Pérez, Elisabet

  • Otros:

    Fecha: 2007-06-22
    Departamento/Instituto: Departament d'Enginyeria Electrònica, Elèctrica i Automàtica Universitat Rovira i Virgili.
    Idioma: eng
    Identificador: http://hdl.handle.net/10803/8458 http://www.tdx.cat/TDX-1205107-182139 9788469103623 T.2181-2007
    Fuente: TDX (Tesis Doctorals en Xarxa)
    Autor: Xifré Pérez, Elisabet
    Director: Marsal Garví, Lluís F. (Lluís Francesc)
    Formato: application/pdf
    Editor: Universitat Rovira i Virgili
    Palabra clave: Design Fabrication and Characterzation of Porous Silicon
    Título: Design, fabrication and characterization of porous silicon multilayer optical devices
    Materia: 621.3 Design Fabrication and Characterzation of Porous Silicon

  • Palabras clave:

    621.3
    Design
    Fabrication and Characterzation of Porous Silicon

  • Documentos:

    Memoria

  • Cerca a google

    Search to google scholar