Development of optical characterization methods for micro-and nano- scale planar photonic band gap structures

Identificador:  TDX:1917

Handle: https://hdl.handle.net/20.500.11797/TDX1917

Autores:  Kral, Zdenek

Resumen:
La caracterización de materiales de gap fotónico (Cristales Fotónicos) es un aspecto fundamental en el desarrollo de las tecnologías para su fabricación y su futura utilización. Esta tesis doctoral se ha ocupado del desarrollo de métodos ópticos de caracterización, así como de su implementación en estructuras fotónicas planares, también conocidas como láminas de cristal fotónico (Photonic Cristal Slabs). De acuerdo con los objetivos fijados para el presente trabajo, hemos obtenido varios resultados, los cuales se resumen en los párrafos siguientes:<br/><br/><br/>&#61656; Se ha desarrollado una técnica experimental basada en la difracción de Bragg en el rango espectral de la radiación infrarroja (IR) cercana y media, para determinar las propiedades de varias estructuras fotónicas planas.<br/><br/>&#61656; Se ha aplicado la técnica de la espectroscopia de reflectometría en ángulo variable (Angular-Dependent Reflectance Spectroscopy, ADRS) a la caracterización de bandas fotónicas en láminas de cristal fotónico. El objetivo ha sido la implementación de la técnica a las muestras fabricadas en el marco del grupo NePhoS de la Universitat Rovira i Virgili. Estas muestras tienen parámetros de red que requieren llevar a cabo una medición en un rango espectral del infrarojo (IR) medio.<br/><br/>&#61656; Finalmente, se ha desarrollado otra técnica óptica para caracterizar estructuras fotónicas planas: la polarimetría espectroscópica de ángulo variable.