The cluster model configuration interaction approach to the study of chemisorption on metal and semiconductor surfaces

Referència de l'ítem segons les normes APA: ILLAS, F; RUBIO, J; RICART, JM (1993). The cluster model configuration interaction approach to the study of chemisorption on metal and semiconductor surfaces. Journal Of Molecular Structure: Theochem, 287(C), 167-178. DOI: 10.1016/0166-1280(93)87219-4

Referència a l'article segons font original: Journal Of Molecular Structure: Theochem. 287 (C): 167-178

DOI de l'article: 10.1016/0166-1280(93)87219-4

Any de publicació de la revista: 1993-11-14

Entitat: Universitat Rovira i Virgili

Data d'alta del registre: 2026-05-09

Autor/s de la URV: Ricart Pla, Jose Manuel

Departament: Química Física i Inorgànica

URL Document de llicència: https://repositori.urv.cat/ca/proteccio-de-dades/

Tipus de publicació: Journal Publications

ISSN: 01661280

Autor segons l'article: ILLAS, F; RUBIO, J; RICART, JM

Àrees temàtiques: Ciências ambientais, Chemistry, physical, Biodiversidade

Adreça de correu electrònic de l'autor: josep.ricart@urv.cat, josep.ricart@urv.cat