The cluster model configuration interaction approach to the study of chemisorption on metal and semiconductor surfaces

Referència de l'ítem segons les normes APA: ILLAS, F; RUBIO, J; RICART, JM (1993). The cluster model configuration interaction approach to the study of chemisorption on metal and semiconductor surfaces. Journal Of Molecular Structure: Theochem, 287(C), 167-178. DOI: 10.1016/0166-1280(93)87219-4

Referència a l'article segons font original: Journal Of Molecular Structure: Theochem. 287 (C): 167-178

DOI de l'article: 10.1016/0166-1280(93)87219-4

Any de publicació de la revista: 1993

Entitat: Universitat Rovira i Virgili

Data d'alta del registre: 2025-02-19

Autor/s de la URV: Ricart Pla, Jose Manuel

Departament: Química Física i Inorgànica

URL Document de llicència: https://repositori.urv.cat/ca/proteccio-de-dades/

Tipus de publicació: Journal Publications

ISSN: 01661280

Autor segons l'article: ILLAS, F; RUBIO, J; RICART, JM

Àrees temàtiques: Química, Medicina ii, Materiais, Interdisciplinar, Farmacia, Engenharias iv, Engenharias iii, Engenharias ii, Educação física, Ciências biológicas iii, Ciências biológicas ii, Ciências biológicas i, Ciências agrárias i, Ciência de alimentos, Chemistry, physical, Biotecnología, Biodiversidade, Astronomia / física

Adreça de correu electrònic de l'autor: josep.ricart@urv.cat