The cluster model configuration interaction approach to the study of chemisorption on metal and semiconductor surfaces

Referencia de l'ítem segons les normes APA: ILLAS, F; RUBIO, J; RICART, JM (1993). The cluster model configuration interaction approach to the study of chemisorption on metal and semiconductor surfaces. Journal Of Molecular Structure: Theochem, 287(C), 167-178. DOI: 10.1016/0166-1280(93)87219-4

Referencia al articulo segun fuente origial: Journal Of Molecular Structure: Theochem. 287 (C): 167-178

DOI del artículo: 10.1016/0166-1280(93)87219-4

Año de publicación de la revista: 1993

Entidad: Universitat Rovira i Virgili

Fecha de alta del registro: 2025-02-19

Autor/es de la URV: Ricart Pla, Jose Manuel

Departamento: Química Física i Inorgànica

URL Documento de licencia: https://repositori.urv.cat/ca/proteccio-de-dades/

Tipo de publicación: Journal Publications

ISSN: 01661280

Autor según el artículo: ILLAS, F; RUBIO, J; RICART, JM

Áreas temáticas: Química, Medicina ii, Materiais, Interdisciplinar, Farmacia, Engenharias iv, Engenharias iii, Engenharias ii, Educação física, Ciências biológicas iii, Ciências biológicas ii, Ciências biológicas i, Ciências agrárias i, Ciência de alimentos, Chemistry, physical, Biotecnología, Biodiversidade, Astronomia / física

Direcció de correo del autor: josep.ricart@urv.cat