Enllaç font original: https://ieeexplore.ieee.org/document/9648224
Referència de l'ítem segons les normes APA: Gonzalez, B; Cabrera, JM; Lazaro, A (2022). Gate Length-Dependent Thermal Impedance Characterization of PD-SOI MOSFETs. Ieee Transactions On Electron Devices, 69(2), 469-474. DOI: 10.1109/ted.2021.3132854
Referència a l'article segons font original: Ieee Transactions On Electron Devices. 69 (2): 469-474
DOI de l'article: 10.1109/ted.2021.3132854
Any de publicació de la revista: 2022-02-01
Entitat: Universitat Rovira i Virgili
Versió de l'article dipositat: info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Data d'alta del registre: 2026-03-02
Autor/s de la URV: Lázaro Guillén, Antonio Ramon
Departament: Enginyeria Electrònica, Elèctrica i Automàtica
URL Document de llicència: https://repositori.urv.cat/ca/proteccio-de-dades/
Tipus de publicació: Journal Publications
Autor segons l'article: Gonzalez, B; Cabrera, JM; Lazaro, A
Accès a la llicència d'ús: https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es/
Àrees temàtiques: Physics, applied, Materiais, Interdisciplinar, Engineering, electrical & electronic, Engenharias iv, Engenharias ii, Electronic, optical and magnetic materials, Electrical and electronic engineering, Ciência da computação, Astronomia / física
Adreça de correu electrònic de l'autor: antonioramon.lazaro@urv.cat