Enlace a la fuente original: https://ieeexplore.ieee.org/document/9648224
Referencia de l'ítem segons les normes APA: Gonzalez, B; Cabrera, JM; Lazaro, A (2022). Gate Length-Dependent Thermal Impedance Characterization of PD-SOI MOSFETs. Ieee Transactions On Electron Devices, 69(2), 469-474. DOI: 10.1109/ted.2021.3132854
Referencia al articulo segun fuente origial: Ieee Transactions On Electron Devices. 69 (2): 469-474
DOI del artículo: 10.1109/ted.2021.3132854
Año de publicación de la revista: 2022-02-01
Entidad: Universitat Rovira i Virgili
Versión del articulo depositado: info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Fecha de alta del registro: 2026-03-02
Autor/es de la URV: Lázaro Guillén, Antonio Ramon
Departamento: Enginyeria Electrònica, Elèctrica i Automàtica
URL Documento de licencia: https://repositori.urv.cat/ca/proteccio-de-dades/
Tipo de publicación: Journal Publications
Autor según el artículo: Gonzalez, B; Cabrera, JM; Lazaro, A
Acceso a la licencia de uso: https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es/
Áreas temáticas: Physics, applied, Materiais, Interdisciplinar, Engineering, electrical & electronic, Engenharias iv, Engenharias ii, Electronic, optical and magnetic materials, Electrical and electronic engineering, Ciência da computação, Astronomia / física
Direcció de correo del autor: antonioramon.lazaro@urv.cat