Enlace a la fuente original: https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6641/ab0446
Referencia de l'ítem segons les normes APA: Assili, Kawther; Selmi, Wafa; Alouani, Khaled; Vilanova, Xavier (2019). Computational study and characteristics of In2S3 thin films: Effects of substrate nature and deposition temperature. Semiconductor Science And Technology, 34(4), 045006-045006. DOI: 10.1088/1361-6641/ab0446
Referencia al articulo segun fuente origial: Semiconductor Science And Technology. 34 (4): 045006-045006
DOI del artículo: 10.1088/1361-6641/ab0446
Año de publicación de la revista: 2019
Entidad: Universitat Rovira i Virgili
Versión del articulo depositado: info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Fecha de alta del registro: 2025-02-18
Autor/es de la URV: Vilanova Salas, Javier
Departamento: Enginyeria Electrònica, Elèctrica i Automàtica
URL Documento de licencia: https://repositori.urv.cat/ca/proteccio-de-dades/
Tipo de publicación: Journal Publications
ISSN: 13616641
Autor según el artículo: Assili, Kawther; Selmi, Wafa; Alouani, Khaled; Vilanova, Xavier
Acceso a la licencia de uso: https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es/
Áreas temáticas: Química, Physics, condensed matter, Materials science, multidisciplinary, Materials science, Materials chemistry, Materiais, Interdisciplinar, Engineering, electrical & electronic, Engenharias iv, Engenharias iii, Engenharias ii, Electronic, optical and magnetic materials, Electrical and electronic engineering, Condensed matter physics, Ciências agrárias i, Biotecnología, Astronomia / física
Direcció de correo del autor: xavier.vilanova@urv.cat