Enlace a la fuente original: https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6641/ab0446
Referencia de l'ítem segons les normes APA: Assili, K; Selmi, W; Alouani, K; Vilanova, X (2019). Computational study and characteristics of In2S3 thin films: Effects of substrate nature and deposition temperature. Semiconductor Science And Technology, 34(4), 045006-045006. DOI: 10.1088/1361-6641/ab0446
Referencia al articulo segun fuente origial: Semiconductor Science And Technology. 34 (4): 045006-045006
DOI del artículo: 10.1088/1361-6641/ab0446
Año de publicación de la revista: 2019-04-01
Entidad: Universitat Rovira i Virgili
Versión del articulo depositado: info:eu-repo/semantics/acceptedVersion
Fecha de alta del registro: 2026-05-09
Autor/es de la URV: Vilanova Salas, Javier
Departamento: Enginyeria Electrònica, Elèctrica i Automàtica
URL Documento de licencia: https://repositori.urv.cat/ca/proteccio-de-dades/
Tipo de publicación: Journal Publications
ISSN: 13616641
Autor según el artículo: Assili, K; Selmi, W; Alouani, K; Vilanova, X
Acceso a la licencia de uso: https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es/
Áreas temáticas: Physics, condensed matter, Materials science, multidisciplinary, Materials science, Materials chemistry, Engineering, electrical & electronic, Engenharias iv, Electronic, optical and magnetic materials, Electrical and electronic engineering, Condensed matter physics, Astronomia / física
Direcció de correo del autor: xavier.vilanova@urv.cat, xavier.vilanova@urv.cat