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Referencia de l'ítem segons les normes APA: Jaafar H; Aouaj A; Bouziane A; Iñiguez B (2020). Surface potential modeling of dual metal gate-graded channel-dual oxide thickness with two dielectric constant different of surrounding gate MOSFET. International Journal Of Reconfigurable And Embedded Systems, 9(1), 52-60. DOI: 10.11591/ijres.v9.i1.pp52-60
Referencia al articulo segun fuente origial: International Journal Of Reconfigurable And Embedded Systems. 9 (1): 52-60
DOI del artículo: 10.11591/ijres.v9.i1.pp52-60
Año de publicación de la revista: 2020
Entidad: Universitat Rovira i Virgili
Versión del articulo depositado: info:eu-repo/semantics/publishedVersion
Fecha de alta del registro: 2023-09-16
Autor/es de la URV: Iñiguez Nicolau, Benjamin
Departamento: Enginyeria Electrònica, Elèctrica i Automàtica
URL Documento de licencia: https://repositori.urv.cat/ca/proteccio-de-dades/
Tipo de publicación: Journal Publications
Autor según el artículo: Jaafar H; Aouaj A; Bouziane A; Iñiguez B
Acceso a la licencia de uso: https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/es/
Áreas temáticas: Logic, Hardware and architecture, Electrical and electronic engineering, Computer science applications
Direcció de correo del autor: benjamin.iniguez@urv.cat